d1329、靶材制作工艺靶材制作方法及靶材制作专利技术专辑-博天堂网页

　　1 02156898.7 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用

　　2 02146604.1 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法

　　3 02116687.0 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极

　　4 03118371.9 铟锡氧化物靶材的制备方法

　　5 02800718.2 溅射靶材

　　6 03107912.1 ag合金膜以及ag合金膜形成用喷溅靶材

　　7 02801192.9 用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法

　　8 00816972.1 制备溅射靶材料的方法

　　9 97116519.x 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材

　　10 97108322.3 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法

　　11 98111996.4 一种磁光盘记录介质靶材制造方法

　　12 99113965.8 含混合稀土元素高阻溅射靶材

　　13 00129797.x 用于制备透明导电薄膜的锌铝氧化物靶材

　　14 00801709.3 铝合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法

　　15 00136711.0 高密度铟锡氧化物靶材及其制造方法

　　16 01128865.5 磁光记录靶材及其生产工艺

　　17 01134646.9 以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的方法

　　18 01104414.4 金属溅镀靶材的制造方法

　　19 02118135.7 铝系合金靶材的制造方法及用该方法得到的铝系合金靶材

　　20 02115767.7 氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法

　　21 200710180108.3 co—fe—zr系合金溅射靶材及其制造方法

　　22 200710176457.8 一种lagao3基固体电解质靶材的制备方法

　　23 200610114349.3 一种金属靶材与靶托的连接方法

　　24 200610114350.6 金属靶材与靶托的连接方法

　　25 200710048001.3 制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺

　　26 200710178957.5 一种li掺杂zno陶瓷靶材制备工艺

　　27 200580050014.3 一种以适配体作为分子识别元件的碳纳米管晶体管生物传感器及其用于检测靶材料的方法

　　28 200710304076.3 导电氧化物陶瓷溅射靶材的热压制备方法

　　29 200710303869.3 一种钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法

　　30 200710001003.7 溅镀靶材的制造方法

　　31 200710078740.7 靶材以及该靶材所制造的薄膜

　　32 200410090068.x 光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质

　　33 200410090057.1 金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法

　　34 200410066585.3 合金靶材磁控溅射法制备cosi2薄膜的方法

　　35 200310105218.5 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶

　　36 200310124552.5 一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法

　　37 200410083416.0 具有改进表面结构的溅射靶材

　　38 200510009585.4 制备mo合金制靶材料的方法

　　39 200510059476.3 溅射靶材料及其生产方法

　　40 200510066653.0 氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法

　　41 200510066665.3 半反射膜或反射膜，光学信息记录介质和溅射靶材

　　42 200410050877.8 溅射金刚石靶材及其制造方法

　　43 200510097876.3 用于改进的磁性层的溅射靶材料

　　44 03826123.5 光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材

　　45 200480008611.5 采用钛与铝材料的混合物涂覆的衬底,制备该衬底的方法和钛与铝金属的阴极靶材

　　46 200580000338.6 高耐热性铝合金配线材料和靶材

　　47 200510064911.1 钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法

　　48 200610039720.4 静电纺丝法制备低密度多孔二氧化锡纳米纤维激光靶材料

　　49 200480028627.2 铝类靶材及其制造方法

　　50 200480027718.4 银合金、其溅射靶材料及其薄膜

　　51 200480029890.3 溅射靶材

　　52 200510106397.3 具有互补斜边以于其间形成倾斜间隙的多靶材牌

　　53 200580001261.4 溅镀靶材

　　54 200510138199.5 溅镀靶材牌的电子束焊接

　　55 200610111222.6 绝缘性靶材及其制造方法、导电性复合氧化膜及设备

　　56 200610112283.4 绝缘性靶材及其制造方法、绝缘性复合氧化膜及装置

　　57 200610053716.3 一种制备溅射靶材料的方法

　　58 200510099699.2 导电薄膜或其保护层用的合金靶材及其制造方法

　　59 200610096720.8 多层膜金属化的靶材

　　60 200610053213.6 一种制造溅射靶材的模锻工艺及其模锻挤压模具

　　61 200610116088.9 利用粉末状靶材制备碲化铋薄膜的单靶溅射方法

　　62 200510109055.7 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法

　　63 200580016686.2 对向靶材式溅镀装置

　　64 200480043213.7 靶材料及其在溅射过程中的应用

　　65 200610152334.6 可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料

　　66 200610145254.8 用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件

　　67 200580023674.2 溅射靶用靶材的制造方法

　　68 200480041991.2 高完整性溅射靶材以及其批量制造方法

　　69 200610151165.4 一种含有掺杂剂元素的石墨靶材的制备方法

　　70 200610136948.5 垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法

　　71 200580027402.x 激光等离子euv光源、靶材构件、胶带构件、靶材构件的制造方法、靶材的提供方法以及euv曝光装置

　　72 200610068288.1 溅镀靶材的制造方法

　　73 200580035605.3 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块

　　74 200580035587.9 一种用于可转动靶材溅射设备的端块

　　75 200710091791.3 软磁性靶材

　　76 200610078102.0 溅镀靶材

　　77 200710126640.7 fe-co系靶材及其制造方法

　　78 200610136694.7 用于衬底处理室的处理配件和靶材

　　79 02293460.x 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置

　　80 02293462.6 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置

　　81 02293461.8 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置

　　82 200720149143.4 可延长靶材使用寿命的平面磁控溅射靶

　　83 200420011041.2 溅射式镀膜机用靶材结构

　　84 200520071314.7 真空离子溅镀靶材

　　85 200520114360.0 一种多元素溅射靶材结构

　　86 200520031316.3 真空镀膜机用成型镀膜靶材

　　87 200520051398.8 一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构

　　88 03148177.9 锌铝氧化物陶瓷靶材表面背铟方法

　　89 02128689.2 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料

　　90 02132251.1 导电薄膜用的合金靶材及制作方法

　　91 02803266.7 铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材

　　92 03124711.3 从铟锡氧化物废靶材中回收铟的方法

　　93 200310111226.0 高密度ito靶材及其制造方法

　　94 03107733.1 溅射靶材

　　95 200310108837.x 使用高电阻硅化物靶材生长硅化物的工艺

　　96 02818904.3 溅射靶材和透明导电薄膜

　　97 200710126292.3 pvd用筒状靶材

　　98 200610109358.3 等离子体溅射靶材装置及其制造方法

　　99 200680000183.0 具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器

　　100 200680006811.6 金属双层结构体及其制造方法以及使用该方法的溅射靶材的再生方法

　　101 200810036561.1 一种p型半导体掺镍氧化铜靶材及其制备方法

　　102 200810073549.8 太阳能电池铜铟镓硒薄膜关键靶材及其制备方法

　　103 200710091735.x 缺陷修补装置及靶材结构

　　104 200710090084.2 复合型相变化记录薄膜以及用以制造该薄膜的靶材与方法

　　105 200680036077.8 siox:si溅射靶材及其制造及使用方法

　　106 200810113175.8 一种大面积靶材的压力焊接方法

　　107 200710065344.0 透明导电薄膜制备所用的靶材及导电薄膜和电极制造方法

　　108 200710065345.5 tft lcd电极薄膜制备所用的靶材及靶材和电极薄膜制备方法

　　109 200810058402.1 高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置

　　110 200810018374.0 一种大功率x线管用wmo石墨复合阳极靶材的制备方法

　　111 200680038538.5 于激光处理期间的即时的靶材表面轮廓追踪

　　112 200810031749.7 一种制备超细晶粒高纯度金属镍靶材的方法

　　113 200710110578.2 含贵金属溅镀靶材的制作方法

　　114 200810133215.5 一种氧化铟锡靶材的生产方法

　　115 200810088879.4 氧化锌类的非晶质薄膜用溅射靶材及其制造方法

　　116 200810116717.7 一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺

　　117 200810302375.8 多孔叠层金属或合金溅射靶材的制备方法

　　118 200810013436.9 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法

　　119 200680051021.x 溅射靶、溅射靶材及其制造方法

　　120 200710142083.8 一种具有多元靶材的溅镀靶

　　121 200710121730.7 tft lcd电极薄膜制备所用的靶材及靶材和电极薄膜制备方法

　　122 200810230779.0 一种纳米均相ito粉制备ito靶材的方法

　　123 200780007008.9 半导体装置、其制造方法以及用于该制造方法的溅射用靶材

　　124 200810225482.5 铜铟镓硒或铜铟铝硒太阳能电池吸收层靶材及其制备方法

　　125 200810143577.2 一种溅射镀膜用高硅含量硅铝合金靶材及其制备方法

　　126 200780009961.7 电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材

　　127 200810179368.3 热等静压法生产ito靶材的方法

　　128 200810179329.3 用于热等静压法制备靶材的包套及制备靶材的方法

　　129 200810232471.x 一种贵金属靶材的修复方法

　　130 200810143347.6 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极

　　131 200580017385.1 一种由具有不同输出性能特征的激光器提供质量一致的靶材料去除的方法

　　132 200810236683.5 bifeo3靶材及薄膜的制备方法

　　133 200810080155.5 一种用于薄膜太阳能电池的氧化锌铝靶材的制备方法

　　134 200680054798.1 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质

　　135 200680054804.3 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质

　　136 200780020719.x 透明导电膜及其制造方法以及用于其制造的溅射靶材

　　137 200780021093.4 高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材

　　138 200680054819.x 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质

　　139 200680054809.6 反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记录介质

　　140 200710304465.6 高纯硼化锆/硼化铪粉体及其超高温陶瓷靶材的制备方法

　　141 200910058543.8 一种ybco超导薄膜靶材的制备方法

　　142 200910025058.0 溅镀用方形tiw靶材表面处理工艺

　　143 200910080471.7 一种制备铜溅射靶材的方法

　　144 200910005687.7 靶材与背板的焊接结构及方法

　　145 200810007546.4 cis系粉末的制作方法及其靶材的制作方法

　　146 200910080461.3 一种半导体及显示器用高纯铜溅射靶材的制造方法

　　147 200910043144.4 一种钛铝合金靶材快速热压烧结成型工艺

　　148 200910127156.5 靶材结构的制作方法

　　149 200910130847.0 靶材与背板的焊接结构及方法

　　150 200880000238.7 al-ni-b系合金溅射靶材

　　151 200780044289.5 显示装置用al合金膜、显示装置以及溅射靶材

　　152 200910127247.9 靶材与背板的焊接方法

　　153 200910127248.3 靶材与背板的焊接方法

　　154 200910127245.x 靶材结构及其制作方法

　　155 200910127246.4 靶材组件的制作方法

　　156 200910127249.8 靶材与背板的焊接方法

　　157 200810010809.7 一种用于磁控溅射的高纯镍靶材

　　158 200910135315.6 铝靶材坯料与铝合金背板的焊接方法

　　159 200910140622.3 靶材的制作方法

　　160 200910117332.7 ito溅射靶材的制备方法

　　161 200910108039.4 一种锗掺杂的azo靶材及其制备方法

　　162 200780045512.8 燃料电池的金属隔板用合金皮膜、其制造方法和溅射用靶材、以及金属隔板和燃料电池

　　163 200910135325.x 铜靶材坯料与铜合金背板的焊接方法

　　164 200910087558.7 掺铌纳米铟锡氧化物粉末及其高密度溅射镀膜靶材的制备方法

　　165 200910108040.7 一种钇掺杂的azo靶材及其制备方法

　　166 200910105321.7 磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法

　　167 200910140216.7 靶材的制作方法

　　168 200910139742.1 铜靶材表面的处理方法

　　169 200910139740.2 钛靶材表面的处理方法

　　170 200910012356.6 一种彩色交流等离子体显示器用烧结体靶材成型用颗粒的混料方法

　　171 200910149514.2 方形靶材的取样方法和检测方法

　　172 200910304873.0 一种cigs粉末、靶材、薄膜及其制备方法

　　173 200910139741.7 铝靶材表面的处理方法

　　174 200910151152.0 铝靶材的加工方法

　　175 200910151153.5 钛靶材的加工方法

　　176 200910165364.4 铜靶材的加工方法

　　177 200910165365.9 铜靶材的加工方法

　　178 200910146299.0 铜溅射靶材料和溅射法

　　179 200910164856.1 靶材热处理方法

　　180 200910164857.6 靶材坯料的热处理方法

　　181 200880008239.6 溅射靶材以及由该溅射靶材所得的溅射靶

　　182 200910163727.0 靶材塑性变形方法

　　183 200910055604.5 超高纯铝超细晶粒溅射靶材的制备方法

　　184 200810134631.7 含贵金属的金属基陶瓷复合靶材的制造方法

　　185 200910148983.2 靶材的检测方法

　　186 200910148985.1 靶材的检测方法

　　187 200910184782.8 一种多靶材x光管

　　188 200910140414.3 靶材与背板的焊接方法

　　189 200910166333.0 大尺寸靶材组件的焊接方法

　　190 200910140415.8 靶材组件的制作方法

　　191 200910140418.1 靶材组件的制作方法

　　192 200910140417.7 靶材与背板的焊接结构及方法

　　193 200910140416.2 靶材与背板的焊接方法

　　194 200910135279.3 靶材热处理方法

　　195 200910140413.9 靶材塑性变形方法

　　196 200910196759.0 一种复合相变材料靶材及其制备方法

　　197 200810032181.0 一种镍基靶材及生产工艺

　　198 200910180107.8 一种制备铌溅射靶材的方法

　　199 200910205430.6 靶材的制备方法

　　200 200910196760.3 制备相变材料的溅射靶材的方法

　　201 200810119914.4 一种分布式熔焊实现靶材与背板连接的方法

　　202 200880020014.2 具有提高的寿命和溅射均匀度的溅射靶材

　　203 200910146669.0 靶材的制作方法

　　204 200910133983.5 多元金属硫族元素化合物和靶材及涂层材料的制备方法

　　205 200910136526.1 陶瓷溅镀靶材组件及其焊合方法

　　206 200910136527.6 高磁通量的钴铁基合金磁性溅射靶材及其制造方法

　　207 200910098518.2 一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法

　　208 201010207876.5 一种cualo2靶材的制备方法

　　209 200910143355.5 注浆成型用的模具、其使用方法及所制成的生胚和ito靶材

　　210 201010237976.2 制备复合材料的可组装靶材、其制造、修复和改装方法

　　211 201010215852.4 筒状旋转靶材帮定材料中含导电导热弹簧

　　212 201010246243.5 一种用惰性气体保护法制备高品质azo靶材的方法

　　213 200910024218.x 一种采用掺磷酸锌的靶材生长p型氧化锌薄膜的方法

　　214 200910208835.5 靶材金相组织的显示方法

　　215 200910148987.0 靶材的检测方法

　　216 200910211713.1 溅射靶材的表面处理方法

　　217 200910233345.0 蒸馏法从ito废靶材中回收铟锡的方法

　　218 200910233346.5 氧化法从ito废靶材中回收铟锡的方法

　　219 200910211712.7 溅射靶材的塑性变形方法

　　220 200910261152.6 靶材组件的制作方法

　　221 200910224770.3 铜或铜合金溅射靶材的清洗方法

　　222 200910251360.8 高纯度铬靶材切削加工方法

　　223 200910212187.0 拼接靶材形成方法

　　224 200810174332.6 铜合金靶材、其制造方法、及其制成的薄膜及太阳能电池

　　225 201010013545.8 一种高纯度钛靶材的制备工艺

　　226 201010002332.5 靶材组件的焊接方法

　　227 200910261153.0 靶材组件的焊接方法

　　228 200910242942.x 一种大面积靶材与背板的快速焊接方法

　　229 200810204401.3 一种溅射靶材的制造方法

　　230 200810204400.9 多组分氧化物的溅射靶材及其制造方法

　　231 200810239844.6 一种高纯高富钨相钨钛靶材及其制备方法

　　232 200910228309.5 靶材压制液压机

　　233 200810188845.2 形成金属玻璃镀膜的靶材及该靶材形成的复合材料

　　234 200910215629.7 大尺寸靶材超声波处理装置及其处理方法

　　235 200910045149.0 zno基粉末-金属复合溅射靶材及其制备方法

　　236 200910002932.9 制备znal靶材的方法以及制得的znal靶材

　　237 200910215628.2 铜靶材组件的制造方法

　　238 201010104349.1 一种高靶材利用率的矩形靶

　　239 200910227780.2 一种控制晶粒度制造ito靶材的方法

　　240 201010123047.9 二钛酸钡陶瓷靶材的制备方法

　　241 200910008925.x 银-金合金靶材、其制造方法及应用

　　242 200910008926.4 再生溅镀靶材及其制作方法

　　243 201010151830.6 靶材组件的制作方法

　　244 201010151887.6 靶材组件焊接方法

　　245 201010136122.5 单相结构-高密度铟锡氧化物靶材的制备方法

　　246 200910078644.1 磁控溅射靶材表面粗糙度的监测方法和系统

　　247 200910044672.1 一种通过大强度电流生产铝钛合金靶材的方法

　　248 201010166497.6 一种氧化锌基溅射靶材的制备方法

　　249 200910133329.4 一种高稳定性能透明导电膜用azo溅射靶材及制造方法

　　250 200910133331.1 用于磁控溅射镀膜的导电nb2o5-x靶材及生产方法

　　251 200910133330.7 一种透明导电膜用izgo溅射靶材及制造方法

　　252 200910049242.9 一种导电的氧化铌靶材、制备方法及其应用

　　253 200910251359.5 靶材生产用锭材的制备方法

　　254 200910224769.0 大尺寸溅射靶材的表面处理方法

　　255 200910117586.9 钽靶材的织构形成方法

　　256 200910051156.1 一种旋转陶瓷靶材的制备方法

　　257 200910195883.5 一种旋转靶材的贴合方法

　　258 200910241498.x 一种ito靶材背面金属化的方法

　　259 201010170534.0 一种硅基合金旋转靶材及其制备方法

　　260 201010213604.6 一种可提高溅射工艺靶材利用率的方法

　　261 200980103400.2 多晶mgo烧结体及其制造方法以及溅射用mgo靶材

　　262 201010159144.3 一种w-ti合金靶材的制备方法

　　263 200910150476.2 含硼靶材及其制作方法、薄膜、磁记录媒体

　　264 201010296317.6 一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法

　　265 201010296951.x 一种高纯钼溅射靶材的制备方法

　　266 201010524411.2 一种靶材结构的制作方法

　　267 201010526670.9 一种钨钛合金靶材结构的制作方法

　　268 200980106669.6 金属系溅射靶材

　　269 200910224768.6 铝或铝合金溅射靶材的清洗方法

　　270 201010526906.9 钨钛合金靶材焊接方法

　　271 200980109474.7 靶材、源、euv光刻设备和使用该设备的器件制造方法

　　272 200980109891.1 用于在激光致等离子体euv光源中输送靶材料的系统和方法

　　273 201010512376.2 胸腺嘧啶类化合物及其作为分子探针靶材料的用途

　　274 200910112272.x 一种氧化铝靶材和该靶材制备的透明导电薄膜

　　275 200980112592.3 长寿命核反应装置高效靶材的原位沉积和再生方法及系统

　　276 200910166813.7 中空柱状靶材及其组件

　　277 201010599296.5 一种高纯钽溅射靶材的加工工艺

　　278 201010575014.8 溅射靶材用钨钛合金板的制备方法

　　279 201010561385.0 一种超高纯铝细晶、高取向靶材的制备方法

　　280 201010526640.8 钼靶材焊接方法

　　281 201010272766.7 氧化铟锡靶材浆料的制备方法

　　282 200980114784.8 垂直磁记录介质的中间层膜制备用的溅射靶材料和通过使用其制备的薄膜

　　283 201010215598.8 一种安全核废料嬗变靶材及其制备方法

　　284 201010526957.1 一种采用冷等静压和液相烧结制备w-10ti合金靶材的方法

　　285 200910187392.6 一种玻璃镀膜靶材及其制备方法

　　286 200910196207.x 靶材及设定靶材元素配比方法

　　287 201010530355.3 钨钛合金靶材加工方法和加工装置

　　288 201010551265.2 一种靶材焊接方法

　　289 201010516156.7 光记录介质用铝合金反射膜以及用于形成该反射膜的溅射靶材

　　290 201110022071.8 金银镶嵌靶材及其薄膜的制备方法

　　291 200910212822.5 一种靶材和利用靶材在铝或铝合金基材上镀膜的工艺方法

　　292 200910207439.0 cigs太阳能光电四元溅镀靶材、其制法、其与靶背板结合方法及其补料方法

　　293 200910308848.x 多元素合金单一靶材制备薄膜太阳能电池的方法

　　294 200980121618.0 a1基合金溅射靶材的制造方法

　　295 201010592928.5 一种钼靶材的加工方法

　　296 201110006297.9 金属混合真空溅射合金靶材材料及其制作方法及用途

　　297 03211969.0 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构

　　298 200620107230.9 一种制造溅射靶材的挤压模锻挤压模具

　　299 200620134206.4 盘状磁性靶材ptf的测试装置

　　300 200820008493.3 可均匀镀膜的靶材装置

　　301 200820081206.1 高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置

　　302 200820136754.x 溅镀靶材的冷却装置

　　303 200820135884.1 用于溅镀设备更换靶材的辅助装置

　　304 200820158804.4 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极

　　305 200820124584.3 多元素溅射靶材结构

　　306 201020120389.0 靶材装置

　　307 200920273469.7 铜或铜合金溅射靶材包装件

　　308 201020046754.8 用于偏振二次靶x射线荧光光谱仪的多靶材靶盘装置

　　309 200920074325.9 一种溅射靶材的冷却装置

　　310 200920204040.2 一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构

　　311 200920267110.9 铝或铝合金溅射靶材包装件

　　312 200920250512.8 靶材压制液压机

　　313 200920278187.6 靶材与背板实现定位的钎焊装置

　　314 201020001917.0 靶材表面喷砂系统

　　315 200920350675.3 圆形铁磁性靶材多圆周ptf检测装置

　　316 201020118658.x 管靶材组件

　　317 201020194925.1 柱状电极靶材装置

　　318 201020105164.8 一种改进的平面靶材

　　319 201020552221.7 一种长寿命溅射靶材

　　320 201020514920.2 光盘薄膜制备中磁控溅射靶材装置

　　321 201020566063.0 靶材装置

　　322 201020245270.6 一种安全核废料嬗变靶材

　　323 201020262992.2 靶材结构及其溅镀设备

　　324 201020589711.4 靶材生产用夹具

　　325 201020568955.4 一种平面陶瓷靶材磨边夹具

　　326 201020569025.0 一种平面陶瓷靶材磨边倒角夹具

　　327 201020569034.x 一种防粘模平面陶瓷靶材成型模具

　　328 201020569038.8 一种平面陶瓷靶材模压成型脱膜装置